近日，公司光信息技术团队在硅基片上滤波器件方面研究取得新进展，相关工作“Local-field engineering in slot waveguide for fabricating on-chip Bragg grating filters with high reflectivity across a flat broadband”发表在Optics Express(2024, 32(3))，吴胜保博士为论文第一作者，姚晓天教授为论文通讯作者，硕士研究生苏勇霞、张磊分别为理论分析和芯片测试的主要贡献者。
具有高反射率的布拉格光栅被广泛应用于片上滤波、传感和激光器中。然而，在标准的220 nm绝缘体硅（SOI）平台上实现宽带平坦响应的布拉格光栅仍是挑战。在本工作中，作者将槽波导的局域光场增强作用与布拉格光栅互补融合，通过啁啾和锥形设计实现了光子带隙的叠加拓宽，并维持了平坦的光谱响应。理论分析表明在91nm 波长范围内的 TE 模式具有-50dB的超高传输抑制率和大于0.99 的反射率，而TM模式下则保持了大于 0.98 的高透过率，实验结果表现出了良好的一致性。该工作为高性能的片上光栅滤波器件设计提供了新的思路。
以上工作得到了国家自然科学基金、河北省自然科学基金、yl23455永利yl23455永利公司引进人才启动项目支持。
论文链接：https://doi.org/10.1364/OE.515662
